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第二百一十九章:发布会之后(4 / 4)

的技术到下一代45纳米,再下一代是28纳米,在下一代是14纳米,然后是7纳米5纳米

光刻机这东西的运行原理其实比较简单。

首先是光源部件,激光器发光,经过矫正后,进入能量控制器、光束成型装置等设备,再进入光掩膜台。

光掩膜台上面放的就设计公司做好的光掩膜,之后经过物镜投射到曝光台。

曝光台上放置着8寸或者12英寸晶圆片,上面涂抹了光刻胶,具有光敏感性,紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。

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